納米尺度芯片Art DFM仿真平臺
（2025年6月28日更新）
基于65/45/40/28納米銅和28納米高k金屬柵CMP工藝及DFM設計規則，研究小組開發了一套平坦和寄生效應，與行業主流完全兼容EDA工具的DFM該平臺具有超大規模地圖快速處理的模擬平臺，ECP/CVD/PVD/CMP工藝模擬、熱輸出、反標等功能。通過布局CMP分析檢查，找出熱點區域填充冗余金屬，并根AVX代理根據設計要求進行修正，形成CMP模擬與參數提取相結合DFM優化流程。DFM該平臺解決了快速并行處理復雜超大布局的技術問題，能夠滿足65/45/40/28納米全芯片布局處理的要求。該平臺的性能已達到行業先進水平，并已通過OEM和科研機構的嚴格測試和驗證，各項指標均達到行業使用標準。DFM該平臺可以整合第三方研究結果，模擬輸出可以與行業主流寄生參數提取工具無縫連接，準確提取寄生參數，提高順序的收斂性。
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納米芯片DFM平臺
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