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三星3nm工廠即將開工:全球首發GAA工藝 功耗直降50%
(2025年1月29日更新)

三星晶圓OEM部門最近一直負面,據報道,一些員工涉嫌偽造和虛報5nm、4nm、3nm工藝的良品率,如高通VIP客戶必須離開,重用臺積電生產驍龍8處理器。然而,從技術上講,三星仍然是唯一一代能夠跟上臺積電的晶圓Simcom代理工廠。

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雖然在7nm、5nm及4nm節點落后,但在接下來的3點nm三星節點更激進,全球首發GAA放棄晶體管工藝FinFET晶體管技術,臺積電3nm工藝仍將基于FinFET工藝。

三星之前說過,GAA它是一種新型的環繞柵極晶體管,由納米片設備制成MBCFET(Multi-Bridge-Channel FET,該技術能顯著提高晶體管的性能,主要取代多橋-通道場效應管FinFET晶體管技術。

根據三星的說法,7nm與制造工藝相比,3nm GAA技術邏輯面積效率提高45%以上,功耗降低50%,性能提高35%左右,但紙面參數優于臺積電3nm FinFET工藝。

當然,這些還是紙上的,三星的3nm工藝挑戰也不少,光是量產就是個問題,在三星宣傳2021年量產之前,其實并非如此,最快也是今年,而且是3GAE低功耗工藝,高性能3GAP工藝至少要2023年。

據韓國媒體報道,三星已準備在韓國平澤市P3.工廠開工建設3nm晶圓廠于6月和7月開工,設備及時引入。

按照這個進度,今年的3GAE這個過程只應該是小規模的試生產,大規模的大規模生產到明年,臺積電3nm工藝差不多,兩家都因為各種問題推遲了量產3nm工藝了。

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