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光刻機(jī)對(duì)芯片制造商至關(guān)重要ASML新技術(shù)也在積極布局。據(jù)外媒報(bào)道，截至目前 2022 年度第一季度，ASML已出貨136個(gè)EUV約7000萬晶圓已被曝光。

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根據(jù)官方聲明，新型號(hào)EUV光刻機(jī)系統(tǒng) NXE:3600D可用性將達(dá)到93%，這將進(jìn)一步接近它DUV光刻機(jī)(95%的可用性)。

數(shù)據(jù)顯示，NXE:3600D每小時(shí)可生產(chǎn)160個(gè)晶圓 (wph)，速度為30mJ/cm，這比 NXE:3400C高18%。二是正在開發(fā)的 NXE:3800E系統(tǒng)最初將是30mJ/cm提供的速度大于195wph吞吐量升級(jí)后，產(chǎn)能達(dá)到220wph。

據(jù)介紹，NXE:3600E 漸進(jìn)式光學(xué)改進(jìn)將在像差、重疊和吞吐量方面進(jìn)行，0.33 NA的EUV光刻機(jī)領(lǐng)域，ASML路線圖包括2025年左右的吞吐量wph的NXE:4000F。

對(duì)于0.55 NA光刻機(jī)不僅需要更新其光刻機(jī)系統(tǒng)。同時(shí)，需要在光掩模、光刻膠層、圖案轉(zhuǎn)移工藝等方面齊頭并進(jìn)，使新設(shè)備的應(yīng)用成為可能。

根據(jù)ASML 根據(jù)第一季度財(cái)務(wù)會(huì)議披露的數(shù)據(jù)，該公司的目標(biāo)是在2022年發(fā)貨55臺(tái)EUV該系統(tǒng)計(jì)劃在2025年實(shí)現(xiàn)(最多)90個(gè)工具。ASML同時(shí)也承認(rèn)， 90臺(tái)可能超過2025年的實(shí)際需求，但他們將其描述為滿足2030年半導(dǎo)體行業(yè)1萬億美元需求所做的巨大努力。

按照之前的說法，ASML價(jià)值4億美元(約26億元人民幣)的新型光刻機(jī)正在開發(fā)中，雙層巴士大，重200多噸。原型機(jī)預(yù)計(jì)2023年上半年完工，2025年首次投入使用，2026年至2030年主力出貨。

這臺(tái)機(jī)器應(yīng)該指的是High-NA EXE:5200（0.55NA），Intel是世界上第一家下單的公司。High-NA即高值孔徑，2nm之后的節(jié)點(diǎn)必須依靠它來實(shí)現(xiàn)。