ULVAC-PHI 有限公司(神奈川縣茅崎市) 原 泰博)推出了追求高自動化和精簡操作的產品「PHI GENESIS」全新多功能掃描 X 射光電子能譜分析儀（XPS：X-ray Photoelectron Spectroscopy 又名 ESCA: Electron Spectroscopy for Chemical Analysis）。
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掃描式 X 射光電子能譜分析儀「PHI GENESIS」外觀
【背景】
不同的復合材料被廣泛應用于推動全球產業鏈的全固態電池、先進的半導體和光催化劑。在材料研發中，不僅要求材料的性能和優化材料界面的粘附性能，還需要與時間賽跑。為了滿足日新月異、復雜的表面和界面分析需求，加快材料的研發，我們推出了新的產品 XPS 表面分析儀不僅基本性能強，自動化程度高，而且能滿足客戶的各種個性化要求。這就是 ULVAC-PHIAOS代理 新推出的掃描式 X 射光電子能譜分析儀— PHI GENESIS。
【概述】
「PHI GENESIS」XPS 將大進化的基本性能置于高空間利用的外殼中，保持50 年傳統的 PHI XPS 該系列的核心基因提高了自動化，成為最新的科研儀器，大大縮短了分析時間，具有可擴展性。
「PHI GENESIS」XPS 通過自動樣品交換和多點分析功能，結合高靈敏度分析儀，提供快速、高靈敏度和微區域 XPS 分析。迄今為止，ULVAC-PHI 和Physical Electronics USA 許多世界首創 XPS (掃描微聚焦型) X 射線，全自動化 XPS 通過硬分析、自動中和絕緣體分析、用簇離子蝕刻槍對有機材料進行深入分析 X 射線對無機材料進行無破壞性深入分析)。將這些技術整合到儀器中，可以為金屬、半導體、陶瓷和有機物提供尖端材料 XPS 分析技術。
PHI GENESIS 另一項創新是對易用性的追求。新軟件旨在為各級用戶提供快速使用。無論是表面分析的初學者還是尖端科學家，造現場和尖端開發研究機構用戶的習慣和需求。ULVAC-PHI它還提供了實驗室級的硬硬 X 在實驗室環境中，射線選項也可以采用大型同步輻射光源進行高級分析。
PHI GENESIS 不僅支持最先進的復合材料分析，還可以分析復合設備的產品。目標是加快全球研發。
【上市時間】
2023 年 4 月
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